受徐州鑫晶半导体科技有限公司委托,二勘院承担了半导体大硅片项目煤矿采空区场地稳定性评价工作。近日,评价报告顺利通过专家评审。
该项目拟建半导体大硅片的生产加工厂房,规划建设装备厂房、动力厂房、拉晶厂房等其他配套设施。拟建场地及周边曾进行过多期次的煤矿开采活动,形成诸多采空区域,本次评价工作的目的任务主要是通过资料的收集、分析和研究,并经野外调查、钻探验证,对拟建场地煤矿采空区地基稳定性及场地适宜性做出评价,对拟建建筑物的设计及施工提供科学依据。
评价报告依据相关规范、规程,在基本查明评价区各类煤矿开采时间、开采方法,开采深度、开采范围等所形成的采空区空间形态基础上采用多种方法对评价区场地的地基稳定性和工程建设的适宜性进行了综合分析评价,对采空区进行了活化分析和地表残余变形的估算,对场地的稳定性和适宜性进行了分区,综合得出了场地稳定性和工程建设适宜性的结论,并分别提出了工程建设应采取的治理措施和建议,为采空区场地的规划建设提供技术支撑。